影响因子 > SCIE > 制造工程
期刊简称:IEEE T SEMICONDUCT M
期刊全称:IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
ISSN0894-6507
影响因子2023:2.332 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(电气和电子工程)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE-(制造工程)-ENGINEERING, MANUFACTURING
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
SCIE-(凝聚态物理学)-PHYSICS, CONDENSED MATTER
出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
发行地址:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊IEEE T SEMICONDUCT M历年影响因子 派博传思
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论文收录SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING历年索引论文数量
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年2.332
2022年2.791
2021年2.796
2020年2.874
2019年1.977
2018年1.140
2017年1.336
2016年1.117
2015年1.045
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年38/51
2022年33/50
2021年31/51
2020年30/50
2019年35/50
2018年43/49
2017年37/46
2016年35/44
2015年30/42
SCIE期刊索引论文
2023年72
2022年77
2021年62
2020年77
2019年80
2018年63
2017年70
2016年51
2015年68
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年29/51
2022年25/50
2021年7/51
2020年8/50
2019年8/50
2018年8/49
2017年7/46
2016年5/44
2015年7/42
SCIE期刊总引频次
2023年2416
2022年2,354
2021年2,185
2020年1,889
2019年1,511
2018年1,546
2017年1,274
2016年1,332
2015年1,099
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年28/51
2022年28/50
2021年29/51
2020年27/50
2019年25/50
2018年26/49
2017年24/46
2016年22/44
2015年20/42
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2023年28/51
2022年28/50
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2019年25/50
2018年26/49
2017年24/46
2016年22/44
2015年20/42
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2023年28/51
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2019年25/50
2018年26/49
2017年24/46
2016年22/44
2015年20/42
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2023年28/51
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2020年27/50
2019年25/50
2018年26/49
2017年24/46
2016年22/44
2015年20/42

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