影响因子 > SCIE > 应用物理
期刊简称:IEEE T SEMICONDUCT M
期刊全称:IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
ISSN0894-6507
影响因子2023:2.332 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(电气和电子工程)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE-(制造工程)-ENGINEERING, MANUFACTURING
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
SCIE-(凝聚态物理学)-PHYSICS, CONDENSED MATTER
出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
发行地址:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊IEEE T SEMICONDUCT M历年影响因子 派博传思
影响因子
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论文收录SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING历年索引论文数量
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年2.332
2022年2.791
2021年2.796
2020年2.874
2019年1.977
2018年1.140
2017年1.336
2016年1.117
2015年1.045
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年92/159
2022年78/160
2021年79/161
2020年71/160
2019年83/155
2018年117/148
2017年101/146
2016年112/148
2015年107/145
SCIE期刊索引论文
2023年72
2022年77
2021年62
2020年77
2019年80
2018年63
2017年70
2016年51
2015年68
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年125/159
2022年123/160
2021年124/161
2020年123/160
2019年116/155
2018年104/148
2017年105/146
2016年97/148
2015年83/145
SCIE期刊总引频次
2023年2416
2022年2,354
2021年2,185
2020年1,889
2019年1,511
2018年1,546
2017年1,274
2016年1,332
2015年1,099
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年115/159
2022年117/160
2021年118/161
2020年117/160
2019年112/155
2018年110/148
2017年112/146
2016年104/148
2015年99/145
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2019年112/155
2018年110/148
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