影响因子 > SCIE > 力学
期刊简称:INT J APPL ELECTROM
期刊全称:INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
ISSN1383-5416
影响因子2023:1.196 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(电气和电子工程)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE-(力学)-MECHANICS
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
出版商:IOS PRESS
发行地址:NIEUWE HEMWEG 6B, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1013 BG
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
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影响因子SCIE期刊INT J APPL ELECTROM历年影响因子 派博传思
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年1.196
2022年0.692
2021年0.536
2020年0.706
2019年0.684
2018年0.684
2017年0.804
2016年0.769
2015年0.724
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年118/137
2022年135/137
2021年138/138
2020年128/136
2019年125/136
2018年123/134
2017年115/134
2016年113/133
2015年111/135
SCIE期刊索引论文
2023年130
2022年99
2021年115
2020年317
2019年289
2018年155
2017年206
2016年312
2015年192
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年58/137
2022年74/137
2021年58/138
2020年64/136
2019年72/136
2018年56/134
2017年NULL/134
2016年70/133
2015年64/135
SCIE期刊总引频次
2023年1330
2022年1,366
2021年1,331
2020年1,361
2019年1,225
2018年1,197
2017年1,304
2016年962
2015年894
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年105/137
2022年105/137
2021年104/138
2020年101/136
2019年95/136
2018年91/134
2017年80/134
2016年89/133
2015年83/135
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2023年105/137
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2019年95/136
2018年91/134
2017年80/134
2016年89/133
2015年83/135
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