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SCIE
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应用物理
期刊简称:
INT J APPL ELECTROM
期刊全称:
INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
ISSN
1383-5416
影响因子2023:
1.196 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:
SCIE-(电气和电子工程)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE-(力学)-MECHANICS
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
出版商:
IOS PRESS
发行地址:
NIEUWE HEMWEG 6B, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1013 BG
出版语言:
English
索引数据库:
SCIE (Science Citation Index Expanded);
Essential Science Indicators
影响因子
SCIE期刊INT J APPL ELECTROM历年影响因子
派博传思
影响因子
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INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS影响因子排名@SCIE应用物理
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历年论文
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SCIE期刊INT J APPL ELECTROM历年论文被引频次
派博传思
历年论文
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派博传思
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影响因子
SCIE期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS历年即时影响因子
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五年总效
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派博传思
五年总效
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INT J APPL ELECTROM五年总效影响因子排名@SCIE物理,应用
SCIE期刊
2015-2023年历年影响因子
2023年
1.196
2022年
0.692
2021年
0.536
2020年
0.706
2019年
0.684
2018年
0.684
2017年
0.804
2016年
0.769
2015年
0.724
SCIE期刊
历年影响因子排名
2023年
137/159
2022年
154/160
2021年
158/161
2020年
153/160
2019年
144/155
2018年
140/148
2017年
128/146
2016年
128/148
2015年
124/145
SCIE期刊
索引论文
2023年
130
2022年
99
2021年
115
2020年
317
2019年
289
2018年
155
2017年
206
2016年
312
2015年
192
SCIE期刊
索引论文数量专业排名
2023年
86/159
2022年
109/160
2021年
47/161
2020年
40/160
2019年
39/155
2018年
44/148
2017年
39/146
2016年
46/148
2015年
43/145
SCIE期刊
总引频次
2023年
1330
2022年
1,366
2021年
1,331
2020年
1,361
2019年
1,225
2018年
1,197
2017年
1,304
2016年
962
2015年
894
SCIE期刊
总引频次学科排名
2023年
134/159
2022年
135/160
2021年
134/161
2020年
133/160
2019年
121/155
2018年
117/148
2017年
111/146
2016年
111/148
2015年
108/145
SCIE期刊
总引频次学科排名
2023年
134/159
2022年
135/160
2021年
134/161
2020年
133/160
2019年
121/155
2018年
117/148
2017年
111/146
2016年
111/148
2015年
108/145
SCIE期刊
总引频次学科排名
2023年
134/159
2022年
135/160
2021年
134/161
2020年
133/160
2019年
121/155
2018年
117/148
2017年
111/146
2016年
111/148
2015年
108/145
SCIE期刊
总引频次学科排名
2023年
134/159
2022年
135/160
2021年
134/161
2020年
133/160
2019年
121/155
2018年
117/148
2017年
111/146
2016年
111/148
2015年
108/145
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