影响因子 > SCIE > 应用物理
期刊简称:INT J APPL ELECTROM
期刊全称:INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
ISSN1383-5416
影响因子2024:1.196 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(电气和电子工程)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE-(力学)-MECHANICS
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
出版商:IOS PRESS
发行地址:NIEUWE HEMWEG 6B, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1013 BG
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊INT J APPL ELECTROM历年影响因子 派博传思
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论文收录SCIE期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS历年索引论文数量
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年1.196
2022年0.692
2021年0.536
2020年0.706
2019年0.684
2018年0.684
2017年0.804
2016年0.769
2015年0.724
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年137/159
2022年154/160
2021年158/161
2020年153/160
2019年144/155
2018年140/148
2017年128/146
2016年128/148
2015年124/145
SCIE期刊索引论文
2023年130
2022年99
2021年115
2020年317
2019年289
2018年155
2017年206
2016年312
2015年192
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年86/159
2022年109/160
2021年47/161
2020年40/160
2019年39/155
2018年44/148
2017年39/146
2016年46/148
2015年43/145
SCIE期刊总引频次
2023年1330
2022年1,366
2021年1,331
2020年1,361
2019年1,225
2018年1,197
2017年1,304
2016年962
2015年894
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年134/159
2022年135/160
2021年134/161
2020年133/160
2019年121/155
2018年117/148
2017年111/146
2016年111/148
2015年108/145
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2023年134/159
2022年135/160
2021年134/161
2020年133/160
2019年121/155
2018年117/148
2017年111/146
2016年111/148
2015年108/145
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2016年111/148
2015年108/145

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