影响因子 > SCIE > 应用数学
期刊简称:JPN J IND APPL MATH
期刊全称:JAPAN JOURNAL OF INDUSTRIAL AND APPLIED MATHEMATICS
ISSN0916-7005
影响因子2023:0.78 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(应用数学)-MATHEMATICS, APPLIED
出版商:SPRINGER JAPAN KK
发行地址:SHIROYAMA TRUST TOWER 5F, 4-3-1 TORANOMON, MINATO-KU, TOKYO, JAPAN, 105-6005
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences;
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊JPN J IND APPL MATH历年影响因子 派博传思
影响因子
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论文收录SCIE期刊JAPAN JOURNAL OF INDUSTRIAL AND APPLIED MATHEMATICS历年索引论文数量
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年0.78
2022年0.982
2021年0.682
2020年0.876
2019年0.367
2018年0.603
2017年0.566
2016年0.486
2015年0.377
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年216/269
2022年197/268
2021年239/267
2020年205/265
2019年258/261
2018年219/254
2017年216/252
2016年222/255
2015年236/254
SCIE期刊索引论文
2023年80
2022年57
2021年46
2020年61
2019年50
2018年55
2017年35
2016年38
2015年38
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年116/269
2022年156/268
2021年178/267
2020年197/265
2019年150/261
2018年137/254
2017年155/252
2016年201/255
2015年190/254
SCIE期刊总引频次
2023年545
2022年525
2021年602
2020年545
2019年387
2018年396
2017年353
2016年317
2015年268
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年212/269
2022年221/268
2021年201/267
2020年197/265
2019年214/261
2018年203/254
2017年201/252
2016年198/255
2015年200/254
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年212/269
2022年221/268
2021年201/267
2020年197/265
2019年214/261
2018年203/254
2017年201/252
2016年198/255
2015年200/254
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2023年212/269
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2018年203/254
2017年201/252
2016年198/255
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2015年200/254

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