影响因子 > SCIE > 应用物理
期刊简称:JPN J APPL PHYS
期刊全称:JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
ISSN0021-4922
影响因子2023:1.547 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
出版商:IOP PUBLISHING LTD
发行地址:TEMPLE CIRCUS, TEMPLE WAY, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences;
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊JPN J APPL PHYS历年影响因子 派博传思
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS影响因子排名@SCIE应用物理


论文收录SCIE期刊JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS历年索引论文数量
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SCIE期刊JPN J APPL PHYS历年论文被引频次 派博传思
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期刊JPN J APPL PHYS被引频次排名 @ SCIE物理,应用 派博传思

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JPN J APPL PHYS五年总效影响因子排名@SCIE物理,应用
SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年1.547
2022年1.574
2021年1.491
2020年1.480
2019年1.376
2018年1.471
2017年1.452
2016年1.384
2015年1.122
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年120/159
2022年131/160
2021年129/161
2020年126/160
2019年113/155
2018年101/148
2017年94/146
2016年99/148
2015年97/145
SCIE期刊索引论文
2023年787
2022年847
2021年716
2020年1,108
2019年1,229
2018年1,364
2017年1,116
2016年1,361
2015年1,148
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年33/159
2022年32/160
2021年146/161
2020年145/160
2019年126/155
2018年122/148
2017年108/146
2016年110/148
2015年103/145
SCIE期刊总引频次
2023年17488
2022年18,256
2021年18,437
2020年18,438
2019年16,570
2018年16,182
2017年29,591
2016年28,540
2015年26,924
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年43/159
2022年40/160
2021年35/161
2020年33/160
2019年31/155
2018年30/148
2017年19/146
2016年17/148
2015年16/145
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2023年43/159
2022年40/160
2021年35/161
2020年33/160
2019年31/155
2018年30/148
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