影响因子 > SCIE > 光学
期刊简称:J LASER APPL
期刊全称:JOURNAL OF LASER APPLICATIONS
ISSN1042-346X
影响因子2023:1.733 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(材料科学及交叉学科)-MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
SCIE-(光学)-OPTICS
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
出版商:AIP PUBLISHING
发行地址:1305 WALT WHITMAN RD, STE 300, MELVILLE, USA, NY, 11747-4501
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊J LASER APPL历年影响因子 派博传思
影响因子
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论文收录SCIE期刊JOURNAL OF LASER APPLICATIONS历年索引论文数量
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历年即时
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五年总效
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五年总效
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年1.733
2022年2.168
2021年2.521
2020年1.636
2019年1.410
2018年1.443
2017年1.597
2016年1.492
2015年1.078
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年70/98
2022年65/100
2021年53/101
2020年70/99
2019年72/97
2018年62/95
2017年51/94
2016年55/92
2015年63/90
SCIE期刊索引论文
2023年161
2022年124
2021年158
2020年144
2019年140
2018年116
2017年118
2016年101
2015年84
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年43/98
2022年50/100
2021年83/101
2020年78/99
2019年83/97
2018年77/95
2017年72/94
2016年71/92
2015年66/90
SCIE期刊总引频次
2023年2859
2022年2,935
2021年2,917
2020年2,209
2019年1,758
2018年1,503
2017年1,040
2016年905
2015年625
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年53/98
2022年54/100
2021年52/101
2020年55/99
2019年56/97
2018年56/95
2017年57/94
2016年58/92
2015年64/90
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年53/98
2022年54/100
2021年52/101
2020年55/99
2019年56/97
2018年56/95
2017年57/94
2016年58/92
2015年64/90
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年53/98
2022年54/100
2021年52/101
2020年55/99
2019年56/97
2018年56/95
2017年57/94
2016年58/92
2015年64/90
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2023年53/98
2022年54/100
2021年52/101
2020年55/99
2019年56/97
2018年56/95
2017年57/94
2016年58/92
2015年64/90

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