| 期刊全称: | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3 |
| 影响因子2022: | 2.382 (2023年7月5日更新) |
| 出版商: | SPIE-SOC PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS |
| 发行地址: | 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225 |
| 索引数据库: | SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences;
Essential Science Indicators
|
| 影响因子 | SCIE期刊Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3历年影响因子 派博传思
 |
影响因子
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3影响因子排名@SCIE光学
|
| 论文收录 | SCIE期刊Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3历年索引论文数量
 |
论文收录
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3索引论文排名@SCIE光学
 |
历年论文
被引频次 | SCIE期刊Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3历年被引频次 派博传思
 |
历年论文
被引频次
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3被引频次排名@SCIE光学 派博传思
 |
历年即时
影响因子 | SCIE期刊Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3历年即时影响因子
 |
历年即时
影响因子
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3即时影响因子排名@SCIE光学
 |
五年总效
影响因子 | SCIE期刊Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3五年总效影响因子 派博传思
 |
五年总效
影响因子
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3五年总效影响因子排名@SCIE光学
 |
|
