| 期刊全称: | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3 |
| 影响因子2023: | 1.556 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新) |
| 出版商: | SPIE-SOC PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS |
| 发行地址: | 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225 |
| 索引数据库: | SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences;
Essential Science Indicators
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| 影响因子 | SCIE期刊J MICRO-NANOPATTERN历年影响因子 派博传思
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影响因子
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3影响因子排名@SCIE电气和电子工程
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| 论文收录 | SCIE期刊Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3历年索引论文数量
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论文收录
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3索引论文排名@SCIE电气和电子工程
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历年论文
被引频次 | SCIE期刊J MICRO-NANOPATTERN历年论文被引频次 派博传思
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历年论文
被引频次
专业排名 |
期刊J MICRO-NANOPATTERN被引频次排名 @ SCIE工程、电气和电子 派博传思
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历年即时
影响因子 | SCIE期刊Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3历年即时影响因子
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历年即时
影响因子
专业排名 | Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3即时影响因子排名@SCIE电气和电子工程
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五年总效
影响因子 | SCIE期刊J MICRO-NANOPATTERN五年总效影响因子 派博传思
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五年总效
影响因子
专业排名 | J MICRO-NANOPATTERN五年总效影响因子排名@SCIE工程、电气和电子
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