| 期刊全称: | TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS |
| 影响因子2022: | 0.692 (2023年7月5日更新) |
| 发行地址: | RADARWEG 29, AMSTERDAM, Netherlands, 1043 NX |
| 索引数据库: | SCIE (Science Citation Index Expanded);
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| 影响因子 | SCIE期刊TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS历年影响因子 派博传思
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影响因子
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五年总效
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